+h??v?c5????vha??[gW?📴🟆🚸]+kC??☯🂼?????P#A?R?6:n? ??"????的光刻技术分成几个步骤，首先是气相成😳🅙底膜，就是硅片在清洗、烘培后首先通过浸泡、喷雾或化学气相沉积等工艺。
然后是旋转涂胶，是形成底膜后，要在硅片表面均匀覆盖光刻胶，此时硅片被放置在真空👸🍨吸盘上，吸盘底部与转动电机相连，当硅片静止或旋转的非常缓慢时，光刻胶被分滴在硅片上，随后加速硅片旋转到一定的转速，光刻胶借助离心作用伸展到整个硅片表面，并持续旋转甩去多余的光刻胶，在硅片上得到均匀的光刻胶胶膜覆盖层，旋转一直到溶剂挥发，光刻胶膜几乎干燥后停止。
然后是软烘，是涂完光刻胶后，需对硅片进行软烘，除去光刻胶中残余的溶剂，提高光刻胶的粘附性和均匀性。未经软烘的光刻胶易发粘并受颗粒污染，粘附力会不足，还会因溶剂🟔🜹含量过高导致显影时存在溶解差异，难以区分曝光和未曝光的光刻胶。
还有曝光，这个🁺🔧过程是在硅片表面😶🅴和石英掩模对准并聚焦后，使用紫外光照射，未受掩模遮挡部分的光刻胶发生曝光反应，实现电路图从掩模到硅片上的转移。
显影，是使用化学显影液溶解由曝光造成的光刻胶可溶😂⚐解区域，使可见图形出现在硅片上，并区分需要刻蚀的区域和受光刻胶保护的🄨⛩🝇区域。显影完成后通过旋转甩掉多余显影液，并用高纯水清洗后甩干。
坚膜，显影后的热烘叫做坚膜烘培，温度比软烘更高，目的是蒸发掉剩余的溶剂使光刻胶变硬，提高光刻胶对硅片🁑🅇🄝表面的粘附性，这一步对光刻胶的♸🍇稳固，对后续的刻蚀等过🏆🗶程非常关键。
坚模之后就是刻蚀了，这项工艺非常重要，是通过化学😂⚐或物理的方法有选择地从硅片表面除去⛯🝶不需要材料的过程，通过刻蚀能在硅片上构建预想的电子器件。
最后就是去胶，🁺🔧是刻蚀完成后，通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶，此时一个小小的芯片基本就完成了！”
呈贤把这台光刻机的工作原理讲的非常清楚，让周明都有耳目一🇱🜖🂍新的感觉。
“果然厉害，我们的刻纹机就没有这么多的结构，怪不得人📀家那么强大，🖱🖜📡在这些小小的细节方面我们就没法比呀！”
作为科学家，周明教授只认真理，人家美国强就是强，你不承认就是自☯🂼欺欺人，不像有的人，人家比你强还不承认，这样的态度永远不会进步。
“海军小同志，你接触这套生产线时间最长，那你有如何改进的方法吗？”
周明看着王海军问道。
王海军一听脑袋晃得跟拨浪鼓一样。
“我有方法？我要有方法那就是神仙了！”
“周教授，我没有任何方法，甚至我连光刻机里🀶🁑的构成😂⚐都不知道呀！”☯🂼
王海军实话实说道。
“嗯，我也没有方法，这种设备不是几个人就能弄♞🈙明白的，看来只能找人了，或许💝那帮家伙能⛯🝶帮上忙！”
周明说道。
“谁？周教授你快说！”